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这台设备比印钞更赚钱!被曝中国员工窃密

来源:智东西   时间 : 2019-04-13 08:36  编辑 : 泉州网站建设

昨天,一条荷兰金融报纸Financieele Dagblad的报道将荷兰半导体设备巨头ASML再次推上了风口浪尖,一度引发震怒,就连外交部都出面回复。

报道称,其美国子公司研发部门的高级中国员工从ASML窃取了企业机密,并最终泄露给了中国公司XTAL,造成了数亿美元损失。该事件被认为是“荷兰公司有史以来最大规模的间谍案”。

ASML是全球半导体产业上游最重要的公司之一,它垄断的半导体生产设备光刻机,关乎到世界上几百家公司的生死。

这家半导体超级霸主,对这则窃密新闻迅速做出了反应。

ASML分别在其官网和微信公众号上贴出官方声明:“ASML并不认同‘中国间谍’说”,“ASML并不是‘国家阴谋’的受害者”。

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此事暂时告一段落,但ASML和中国的风波纠葛却从很久之前就开始。和中国企业打专利官司、不把高端光刻机设备卖给中国、禁止雇佣中国员工……

尽管ASML每一次都站出来辟谣,但这一次次事件的背后,仍然可以看到,在面对芯片半导体核心技术、核心设备的时候,各技术强国的谨小慎微姿态,包括与ASML相关的台前台后多个国家,也包括美国。

这家出厂的设备运转起来比印钞机还赚钱的ASML有着怎样的背景和不为人知的故事,值得我们深入的扒一扒。

一、隐形的半导体霸主,独步全球光刻机江湖

在说ASML的全球地位有多显赫之前,我们先说说芯片是怎样造出来的。

芯片制造的过程有点像盖房子,首先你要有设计图,明确哪一部分负责做什么、怎么设计才能达到更好的效果,这个方面最基础的设计逻辑就是ARM等公司垄断的知识产权(IP)。

有了设计图,还需要工人一点点加砖砌瓦,这个过程就需要处理材料的生产设备,其中最为核心也最难造的设备之一叫光刻机。

简单地说,光刻技术就是把图像投影到感光底片上,用光作为自己的“刀”,在平面上刻出繁复的图案。

遵循着摩尔定律,芯片越做越小,光刻机投影的那把刻刀也必须越来越小,毕竟,让几百纳米粗细的刀去刻出几纳米的线条,基本上是不可能的事。

但线条也不是越细越好,线条过细,投影会变模糊,所以线条粗细还不能低于光波长的一半。当前世界上最顶尖的极紫外(EUV)光刻机用13.5nm的极紫外光源,来刻10nm以下的线条。

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光刻机的光源有:激光,紫外光、深紫外光、极紫外光。现在最先进技术是极紫外光。

无论是极紫外光源还是镜头、机械部件都极端精密,一台光刻机的装配大约需要50000个零件左右,几乎每个组件都具有较高的技术垄断性。

目前在全球范围,荷兰ASML公司正是垄断全球光刻机市场的霸主,占据了超过80%的份额,更是世界上迄今为止最高端的光刻机——EUV光刻机的唯一生产商,1台EUV光刻机的售价就超过了1亿美元。

相比之下,我国国内第一大光刻机制造商上海微电子的光刻机目前可实现90nm量产的水平,正在筹备跨过65nm的台阶。

也就是说,无论是台积电、三星还是英特尔,想要造出7nm和10nm芯片,就必须砸下天文数字买ASML的设备。

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顶级光刻机的产量非常低,从2013年到2017年EUV出货量不到30台。根据ASML公开的2018年EUV光刻机设备订单,台积电预定了10台、三星预定了6台、英特尔预定3台、格芯1台、中芯国际1台。另外,ASML 2019年将计划出货30台EUV光刻机。

其中,国内晶圆代工大厂中芯国际几乎耗尽2017年的全部利润(约1.264亿美元),也要花1.2亿美元(折合人民币7.6亿)的天价从ASML手里订购走一台EUV光刻机,这也是迄今为止中国买到的第一台暨唯一一台EUV光刻机。

当然,不是说订完货就能拿到。首先订货得排队,交货期将近两年,交货后生产线调试约需一年,加到一起,从下订单到量产要至少三年。按照订购周期,中芯国际的EUV光刻机预计今年上半年到中国。

这台设备被寄予了厚望,希望中芯国际能借此突破10nm以下制程容易的瓶颈,助力我国高端芯片自主制造,突破芯片产能限制问题。

二、传奇飞升史:三星、英特尔、台积电三大金主

你可能没听说过ASML,但你一定知道飞利浦。

ASML创立于1984年,总部位于荷兰费尔德霍芬,是从飞利浦半导体部门独立出来的,当时它的名字还是ASM Lithography Holding N.V.,直到2001年才改成现在的名字。

ASML的产品类型非常专一,就是造光刻机。但刚刚起步的ASML,由于缺乏充足的研发资金等原因,在技术方面较其他日美同类企业相对落后。

这时,ASML的老东家飞利浦雪中送炭,再加上轻资产策略,终于在1995年成功上市。

通过投资和并购来填补技术空白,在半导体领域是一项非常常规的操作,ASML也不例外,在上市后走上了买买买的道路。

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其中最为重要的一起并购案当属以19.5亿欧元全资收购美国光学技术供应商Cymer,这起并购案为高端EUV光刻机的成功量产奠定了重要基石。

另外,在2016年,ASML以10亿欧元的价格获得它的光学模组供应商蔡司24.9%的股权,同时承诺在未来6年向卡尔蔡司半导体提供总额7.6亿欧元的资金支持,协助后者开展提升数值孔径的研发工作。

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因为ASML在研发EUV光刻机方面的技术实力,2012年,ASML提出客户共同投资计划(CCIP),英特尔、台积电、三星这举足轻重的半导体巨头宣布联合投资ASML,并分别获得ASML15%、5%、3%的股权。

既有了技术的积累,又有了充沛的资金,接下来,ASML就开始安安心心搞研发了。EUV光刻机也开始出现阶梯式进展。

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